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  • Chemical Filter

  • 마이크로포어는 차세대 반도체와 디스플레이를 비롯해서 일반 산업현장과 물 여과공정에 필요한 특허받은 제품군, 맴브레인, 필터 미디어와 여과
    장치를 개발해왔습니다. 개발된 제품은 당사 전문가들의 열정과 항상 아래의 항목을 기반으로 완성되어 왔습니다.
    • 여과 비용 절감
    • 압력손실의 최소화
    • 파티클 여과 성능
    • 에너지 절감
    • 케미컬 절감
    마이크로포어의 제품과 기술은 산업현장의 그 어느 제품보다 경쟁력을 갖고 있으며 고객사의 전략적 파트너로서 오랜 경험을 바탕으로 요구하는
    공정에 최적화된 제품을 제안드립니다.



    Semiconductor/Advance Electronics Industry

    Chemical Mechanical Polishing (CMP) Slurry Filtration
    SlurriGard™-N, DUO and PS Series Filters

    SlurriGardTM 필터는 차세대 CMP (chemical mechanical polishing) 공정을 위한 Pre-cleaned CMP 슬러리 필터입니다.

    슬러리 공정을 위한 최적화된 Media design :
    SlurriGardTM 시리즈 필터는 CMP 공정에 필요한 슬러리내 존재하는 Aggregate, Agglomerate and Microgels 과 같은 파티클을 제거합니다.
    여과 이후에도 슬러리 사이즈 분포는 변하지 않습니다.
    슬러리 종류에 따른 다양한 미디어 형태

    Slurrigard™ N
    0.5um 이상의 N 시리즈 필터 는 5~8 층의 마이크로 섬유 미디어로 이루어져 있으며 큰 여과 용량과 훌룡한 Filtration CUT OFF Curve를 보여줍니다. 반면 0.5um 이하의 필터는 Colloidal 및 Ceria 슬러리에 적합한 나노 섬유 미디어로 이루어져 있어 파티클 여과 성능이 매우 높습니다.
    Slurrigard™ DUO
    DUO 시리즈는 Patented Pleated depth 와 Wrapped downstream 미디어로 이루어져 있으며 Gel forming 슬러리에 적합합니다.
    Patented Pre-Wet Technology :
    0.5um 이하의 Pore size 에서는 Patented Pre-Wet process 가 적용된 필터를 통해 보다 빠른 가동에 따른 가동률 증가, 슬러리 절감, 향상된 여과
    성능을 확인하실 수 있습니다.

    Cooper plating & Etch Clean Filtration
    CoopaGard™ Series 0.1um, 0.05um, 30nm, 20nm
    High Purity Hydrophilic Membrane Filters

    CooperGard 는
    구리도금 공정과 저온유기 PR Stripper (without peroxide) 에 효과적이고 경제적입니다.
    필터 미디어인 polysulfone hydrophilic 맴브레인은 도금액 및 공정에 영향을 끼치지 않습니다.
    high purity virgin polypropylene support는 high purity 성능과 구리 도금 공정에 신뢰할 수 있는 재질입니다.
    20nm retention rating
    최적화된 비대칭 Polysulfone 고유량저압력 맴브레인 필터는 20나노미터까지 Seiving particle retention 메커니즘을 제공합니다.
    CooperGard는 40, 25, 20 나노미터 기술의 요구에 신뢰할 수 있는 제품입니다.
    Microbubble 제거
    CooperGard 의 친수성 미디어 표면은 defect의 원인이 되는 마이크로버블의 생성 가능성을 줄여줍니다.

    Wet Etch & Clean Filtration
    BuffaEtch™ Series 0.05um, 30nm, 20nm, 10nm
    High Purity Hydrophilic Membrane Filters

    BOE(Buffered Oxide Etch) cleaning 과 Dilute HF recirculation bath 공정용 DUO-Retention 매카니즘 적용
    DI Wafer cleaning

    최적화된 HAPS 비대칭 Polysulfone 고유량, 저압 맴브레인은 10nm 까지의 sieving과 absorption 파티클 여과성능 매카니즘을 제공합니다. BuffaEtch™ 필터는 20나노 공정의 요구에 신뢰성있게 적용할 수 있습니다.

    Pre-wetting과 마이크로 버블 제거에 따른 down time 최소화
    BuffaEtch™ 시리즈는 친수성이며 Pre-wetting 없이 Process up time을 최대화 할 수 있습니다.
    초순수 DI를 이용한 Pre-flushed 제품으로 빠른 Rinse up time을 제공합니다.
    HAPS Membrane
    Polyethylene에 비해 강한 친수성을 갖고 있습니다.
    완전 Wetting이 되므로 나노공정에서 중요시되는 마이크로버블을 적절히 제거합니다.


    고유량
    Minano™ HAPS 비대칭 polysulfone 맴브레인을 적용하여 산업에서 요구되는 고유량 filtration이 가능합니다.

    Chemical Delivery System Filtration
    FluoroECT™ AT series Cartridge Filters
    Superior pleated PTFE (Polytetrafluoroethylene) membrane filters with fluoro-polymer ECTFE support

    고유량, 저압은 물론 최적화된 80~95% 다공과 균일한 포어사이즈 분포및 여과면적
    순도 성능 유지를 위해 표면 변형이나 후처리 및 첨가물질 사용은 하지 않습니다.
    Chemical Delivery System / Solvent / Electronic chemical Filtration
    SC1, SC2, RCA Clean / Photo-resist stripper Filtration
    Ozone and aggressive chemical

    Photoresist system filtration
    Microchem™-D Series Disposable Filters
    High purity disposable filters made of hydrophobic PTFE membrane or Nylon membrane

    소수성 PTFE 또는 나일론 맴브레인과 UHP Vergin grade PP support로 제작된 고순도 Disposable 필터입니다.
    다양한 PR과 솔벤트에 적용가능한 우수한 케미컬 호환성을 제공합니다.
    MicrochemTM?D F 시리즈는 고성능 PTFE 맴브레인을 적용하며 agreesive solvent base인 Photochemical 부터 형성된 Hard particle과
    Small particle 제거에 적합하게 디자인되었습니다.
    MicrochemTM?D N 시리즈는 나일론 맴브레인을 적용하며 advanced PR 로부터 형성된 마이크로 & 소프트 젤과 파티클 제거에 적합하게
    디자인되었습니다. (Pre-wetting 불필요)
    MicrochemTM?D N 시리즈는 ARC(anti-reflective coating) 공정중 발생하는 Micro-bridging defect 와 cone defect 최소화에 적합하게
    디자인되었습니다.
    Ultra clean filter design
    193nm and 248nm photoresist system filtration
    PR filtration
    POU Developer and DI Wafer
    POU Solvent, IPA, Acetone and others

    External Certification:




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